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2024年03月18日 11:10
EB4-X3離子輔助電子束成膜設(shè)備 | |
項(xiàng)目所在采購意向: | |
采購單位: | **** |
采購項(xiàng)目名稱: | EB4-X3離子輔助電子束成膜設(shè)備 |
預(yù)算金額: | 280.000000萬元(人民幣) |
采購品目: | A****2002 |
采購需求概況 : | 主要指標(biāo)及配置: 1、平面行星轉(zhuǎn)動部套:可裝載直徑尺寸不大于Ф1000,凈重不大于800Kg的工件三件; a、行星盤數(shù)量3個(gè),行星盤轉(zhuǎn)動無卡滯; b、工轉(zhuǎn)速度0~10rpm; c、行星盤承重≤800kg 2、電子束蒸發(fā)部套:雙槍單電源兩套,270°磁偏轉(zhuǎn);電子槍控制電源兩套,功率10 KW及相應(yīng)的環(huán)形、多穴水冷坩堝; a、高壓:-4kV~10kV; b、電子束流:0~1000mA; c、坩堝容量:穴堝單穴20cc,環(huán)堝1000cc。 3、石英晶體膜厚監(jiān)控部套:(5探頭); a、頻率穩(wěn)定度:膜厚儀通電15min后,測量探頭頻率穩(wěn)定度≤±10Hz@6MHz; b、坩堝控制準(zhǔn)確; c、膜層自動切換準(zhǔn)確可靠。 4、離子源輔助部套:配國產(chǎn)離子源兩套; a、離子能量:0~1200eV。 b、離子束流:0~1000mA。 c、電子束流:0~1600mA。 5、充氣系統(tǒng):對相應(yīng)電子束蒸發(fā)源進(jìn)行充工藝氣體; 6、冷卻水系統(tǒng):對電子束蒸發(fā)源、石英晶控探頭、離子源等的水流保護(hù)裝置; 7、電氣控制:對電子束蒸發(fā)源、石英晶體膜厚控制系統(tǒng)、離子源系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、行星工件轉(zhuǎn)動系統(tǒng)等的監(jiān)測和控制,滿足多層膜的沉積工藝需求。 a、控制方式:手動/自動; b、能夠依據(jù)設(shè)計(jì)膜系,自動完成膜系鍍制; c、對上述四個(gè)主要系統(tǒng)進(jìn)行測量和控制。 廠家報(bào)價(jià)及選型:廠家最低報(bào)價(jià)為人民幣424萬元。 主要部件清單: 序號 名稱 數(shù)量 廠家 1 電子束蒸發(fā) 2 **涉谷 2 膜厚控制 5 膜林科技 3 離子源 2 ** 4 行星工轉(zhuǎn) 1 定制 5 控制系統(tǒng) 1 定制 現(xiàn)有同類型儀器設(shè)備使用管理情況: ****天文臺**基地并沒有可以鍍多層多種膜系的設(shè)備,對于設(shè)備的使用與管理可以參考早期直徑2.8米鐘罩式真空鍍膜機(jī)的使用管理情況進(jìn)行,這臺自1968年安裝至今已使用了50多年的鍍膜機(jī),****基地技術(shù)組負(fù)責(zé)運(yùn)行維護(hù)。多年來利用****基地2.16米反光、1.26米紅外、60/90厘米施密特等多臺望遠(yuǎn)鏡每年的常規(guī)鍍膜工作。目前新的3.2米鐘罩式真空鍍膜機(jī)(一期),只能夠進(jìn)行單層軟膜的鍍制,也由基地技術(shù)組負(fù)責(zé)使用與運(yùn)維,目前工作狀態(tài)良好。 |
預(yù)計(jì)采購時(shí)間: | 2024-06 |
備注: |
本次公開的****政府采購工作的初步安排,具體采購項(xiàng)目情況以相關(guān)采購公告和采購文件為準(zhǔn)。
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