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高溫高真空薄膜沉積系統(tǒng) | |
項目所在采購意向: | ****2024年10至12月政府采購意向 |
采購單位: | **** |
采購項目名稱: | 高溫高真空薄膜沉積系統(tǒng) |
預算金額: | 680.000000萬元(人民幣) |
采購品目: | A****0300電子工業(yè)生產(chǎn)設備 |
采購需求概況 : | 用于實現(xiàn)高質(zhì)量的氧化物、氮化物及多元金屬/化合物薄膜的制備,工藝腔極限真空滿足低于5E-8Torr,基片加熱溫度能達到800℃的能力,能達到三路工藝氣體且控制精度不高于讀數(shù)的±0.5%;帶傳片LoadLock;配置樣品反濺射和離子源系統(tǒng),以實際公告為準。 |
預計采購時間: | 2024-11 |
備注: | 詳見項目詳情 |
本次公開的****政府采購工作的初步安排,具體采購項目情況以相關采購公告和采購文件為準。