刻蝕氣體供氣及尾氣處理裝置 (XJD2024091900019) 采購公告

發(fā)布時間: 2024年09月19日
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刻蝕氣體供氣及尾氣處理裝置 (****) 采購公告

發(fā)布時間:2024-09-19 16:06:36

項目名稱 項目編號 公告開始日期 公告截止日期 采購單位 付款方式 簽約時間要求 到貨時間要求 預算總價 幣種 收貨地址 供應商資質(zhì)要求
刻蝕氣體供氣及尾氣處理裝置****
2024-09-19 16:06:362024-09-23 12:00:00
****貨到安裝、調(diào)試、驗收合格后,付全款。
發(fā)布競價結(jié)果后7天內(nèi)簽訂合同發(fā)布競價結(jié)果后7天內(nèi)送達
人民幣
**省**市**區(qū)****
采購清單 1
采購商品 采購數(shù)量 計量單位 附件
刻蝕氣體供氣及尾氣處理裝置 1.00
品牌 型號 預算單價 規(guī)格參數(shù) 售后服務
創(chuàng)世威納
1、主要功能 可為反應離子刻蝕機提供安全的工藝氣體供氣系統(tǒng)以及尾氣處理排放。 2、主要技術指標 2.1氣瓶柜規(guī)格:1200mm *1200mm*450mm 2.2可裝載氣瓶高度1:≥700mm 2.3可裝載氣瓶直徑1:≥400mm 2.4可裝載氣瓶高度2:≥1500mm 2.5可裝載氣瓶直徑1:≥400mm 2.6可裝載氣瓶數(shù)量:≥3瓶 2.7氣體減壓閥氣壓輸入:≥25Mpa 2.8氣體減壓閥氣壓輸出:≥1Mpa 2.9氣體減壓閥輸入接口:G5/8RF 2.10氣體減壓閥輸出接口:1/4卡套 2.11氣體純度:99.999 2.12尾氣處理效率:>98.5% 2.13適用氣體:HCL,NH3,CL2,BCL3,SICL4,SIH 2CL2,SIHCL3,ETC 3、主要配置 3.1特氣氣瓶柜,3瓶裝,1套 3.2普氣氣瓶柜,3瓶裝,1套 3.3普氣減壓表:3套 3.4特氣減壓表:3套 3.5 SF6、CHF3、CF4氣體,各1瓶 3.6 O2、Ar、N2氣體,各1瓶 3.7尾氣處理系統(tǒng),1套 3.8上述氣體管路以及附屬配套的安裝。
按行業(yè)標準提供服務,質(zhì)保期12個月。
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2024-09-19
招標公告
刻蝕氣體供氣及尾氣處理裝置 (XJD2024091900019) 采購公告
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