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中國(guó)科學(xué)院2024年儀器設(shè)備部門集中采購(gòu)項(xiàng)目中標(biāo)一覽
摘要信息
中標(biāo)單位
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中標(biāo)金額
3165000.00
中標(biāo)單位聯(lián)系人
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招標(biāo)單位
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****學(xué)院2024年儀器設(shè)備部門集中采購(gòu)項(xiàng)目中標(biāo)一覽
| 包號(hào) | 貨物名稱 | 中標(biāo)品牌 | 中標(biāo)型號(hào) | 中標(biāo)價(jià)格/萬(wàn)元 | 采購(gòu)單位 |
| 1 | 高分辨質(zhì)譜儀（Q-TOF） | 沃特世 | Xevo G3 QTOF | 316.5 | **** |
| 2 | 激光片層掃描顯微鏡 | Intelligent Imaging Innovations | Marianas | 349.5 | ****植物園 |
| 3 | 高分辨離子淌度飛行時(shí)間質(zhì)譜儀 | 布魯克﹒道爾頓 | timsTOF Pro 2 | 599.6 | ****學(xué)院****研究所 |
| 超高壓液相色譜儀 | 安捷倫 | 1290 Infinity Ⅱ | 49.9 | ||
| 4 | 高分辨核磁共振波譜儀 | 廢標(biāo) | ****學(xué)院****研究所 | ||
| 5 | 200KV透射電子顯微鏡 | 日本電子 | JEM-2100Plus | 346 | ****研究所 |
| 成像系統(tǒng) | EMSIS GmbH | Xarosa | 72.8 | ||
| 6 | 八英寸晶圓級(jí)氮化硅低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備 | Centrotherm international AG | c.VERTICOO（Mini） | 776.47 | ****研究所 |
| 7 | 緊湊型多功能介質(zhì)薄膜快速沉積設(shè)備 | Samco | PD-220NL | 247.11 | ****研究所 |
| 8 | 掠入射/小角/廣角X射線散射儀 | 廢標(biāo) | ****學(xué)院****研究所 | ||
| 9 | X射線單晶衍射儀 | 株式會(huì)社理學(xué) | XtaLAB Synergy-R | 298.8 | ****學(xué)院****研究所 |
| 10 | 超高效液相-高分辨質(zhì)譜聯(lián)用儀 | 沃特世 | Xevo G3 Qtof | 279.8 | ****學(xué)院****研究院 |
| 11 | 場(chǎng)發(fā)射電子探針顯微分析儀儀器配置 | 日本電子 | JXA-iHP200F | 630 | ****學(xué)院****研究所 |
| 12 | 8890-7250 | 安捷倫 | 8890-7250 | 266.78 | ****學(xué)院****研究所 |
| 13 | 基質(zhì)輔助激光解析離子化 超高分子量飛行時(shí)間質(zhì)譜儀 | 島津制作所 | AXIMA Performance | 359.6 | ****學(xué)院****研究所 |
| 14 | 全二維液相色譜/高分辨質(zhì)譜 | 安捷倫 | 6546 LC/Q-TOF | 288.85 | ****學(xué)院****研究所 |
| 15 | 實(shí)時(shí)細(xì)胞代謝系統(tǒng) | 安捷倫 | XFPro | 238 | ****學(xué)院****研究所 |
| 16 | 快速超分辨活細(xì)胞成像系統(tǒng) | 尼康 | AXR with NSPARC | 494 | ****學(xué)院****研究所 |
| 17 | 超快速超靈敏轉(zhuǎn)盤共聚焦系統(tǒng) | Evident | SPINSR | 304.3 | ****學(xué)院分子****中心 |
| 18 | 原位電化學(xué)反應(yīng)可視化共焦光學(xué)顯微鏡 | 徠卡 | STELLARIS 5 | 283 | ****學(xué)院****研究所 |
| 19 | 原位液體環(huán)境透射電鏡 | 日本電子 | JEM-F200 | 899.25 | ****學(xué)院****研究所 |
| 20 | 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡 | 日本電子 | JEM-F200 | 649.13 | ****中心 |
| 21 | 高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 | / | / | 438.66 | ****學(xué)院****研究所 |
| 22 | 超高分辨率激光共聚焦顯微鏡 | 徠卡 | STELLARIS STED | 320 | ****中心 |
| 23 | 200kV場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡 | 日本電子 | JEF-F200 | 949.1 | ****學(xué)院****研究所 |
| 24 | 場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 及分析制樣系統(tǒng) | 廢標(biāo) | ****學(xué)院****研究院 | ||
| 25 | 多接收電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 | Nu Instruments Ltd. | Plasma3 | 478.9 | ****學(xué)院****研究所 |
| 膜去溶自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng) | Teledyne Technologies Incorporated | Aridus 3 ASX112-FR | 74.95 | ||
| 26 | 臺(tái)式X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜儀 | **創(chuàng)譜 | Table XAFS500 | 395.6 | ****學(xué)院****研究院 |
| 27 | 聚焦離子束雙束微納加工表征系統(tǒng) | 卡爾蔡司 | Crossbeam 350 | 619 | ****學(xué)院****研究院 |
| 28 | 高分辨液質(zhì)聯(lián)用分析系統(tǒng) | 安捷倫 | Revident | 261.7 | ****學(xué)院****研究所 |
招標(biāo)進(jìn)度跟蹤
2024-09-10
中標(biāo)通知
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